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Competição EUV se enfurece com equipamentos de semicondutores periféricos
Em torno da nova geração de tecnologia de fabricação de semicondutores "EUV (Extreme Ultraviolet Light)", a competição entre empresas de equipamentos se intensificou. A Tokyo Electronics investirá um alto custo de desenvolvimento recorde no ano fiscal de 2020 (em março de 2021), e a carteira de pedidos da Lasertec dobrou no ano passado. No mercado de equipamentos relacionados ao EUV, o ASML holandês monopoliza a máquina litográfica central, mas nos campos de inspeção e fonte de luz, a presença de empresas japonesas também está melhorando.
Toshiki Kawai, presidente da Tokyo Electronics, o terceiro maior fabricante mundial de equipamentos de fabricação de semicondutores, disse: "Se o EUV for popularizado, a demanda por equipamentos de ponta aumentará". No ano fiscal de 2020, investirá um recorde de 135 bilhões de ienes em despesas de pesquisa e desenvolvimento. .
Toshiki Kawai, presidente da Tokyo Electronics, o terceiro maior fabricante mundial de equipamentos de fabricação de semicondutores, disse: "Se o EUV for popularizado, a demanda por equipamentos de ponta aumentará". No ano fiscal de 2020, investirá um recorde de 135 bilhões de ienes em despesas de pesquisa e desenvolvimento. .
A vantagem da Tokyo Electronics é "Coater Developer". Este equipamento é usado para revestir um líquido químico especial em uma pastilha de silício como material semicondutor para desenvolvê-lo. No campo de equipamentos de produção em massa EUV, a participação de mercado da empresa é de 100%. As vendas consolidadas para este ano fiscal devem atingir 1,28 trilhão de ienes. Mais de 10% disso será usado para pesquisa e desenvolvimento para consolidar a vanguarda na etapa de popularização da EUV.
No mercado de equipamentos de fabricação de semicondutores de mais de 6 trilhões de ienes por ano, mudanças geracionais estão ocorrendo.
Quanto mais fina a largura da linha de circuito de um semicondutor, maior o desempenho e o atual produto de ponta é de 5 nanômetros. Para transferir um circuito tão fino para uma pastilha de silício, a máquina de litografia EUV é indispensável. Com o aumento da oferta de ASML, o único método EUV produzido em massa no mundo, também começou a competição pelo desenvolvimento, incluindo equipamentos periféricos, como revestimento e fontes de luz.
O símbolo da mudança geracional é o fabricante de equipamentos de teste Lasertec. Se houver defeitos na máscara fotográfica como placa de circuito original, a taxa de defeitos do semicondutor aumentará de acordo. A empresa produz equipamentos de teste compatíveis com EUV, e seus pedidos de julho de 2019 a março de 2020 aumentaram 2,2 vezes em relação ao mesmo período do ano passado, atingindo 65,8 bilhões de ienes. Espera-se que dois terços dos pedidos anuais estejam relacionados à EUV.
Além disso, confrontos ferozes entre empresas japonesas também estão ocorrendo. No campo das máquinas de escrever máscaras de feixe de elétrons, a NuFlare Technology da Toshiba está alcançando a aliança entre a JEOL e a IMS NANOFABRICATION (Áustria). O foco está no desenvolvimento da tecnologia "Multi-Beam" usando 260.000 raios laser.
Em janeiro, a Toshiba repeliu a HOYA, que iniciou uma TOB (oferta pública de aquisição) hostil e consolidou seu controle sobre Niu Fulai. 25 técnicos de desenvolvimento recém-enviados, etc., planejam fornecer equipamentos litográficos de próxima geração com suporte ao EUV até 2020.
A Gigaphoton (localizada na cidade de Oyama, província de Tochigi), uma subsidiária da Komatsu que produz fontes de laser, está ansiosa por um retorno. Antes do advento do EUV, a empresa se tornou uma das duas principais no campo de fontes de luz para máquinas de litografia. No entanto, devido a razões como a aquisição de um concorrente pela ASML, atualmente está perdendo sua presença. A Gigaphoton se esforça para desenvolver componentes de fontes de luz de alta produção antes que a ASML lance equipamentos de próxima geração EUV para recuperar sua participação no mercado.
O pano de fundo para as empresas acelerarem o desenvolvimento de equipamentos EUV é a competição de miniaturização lançada pela Samsung Electronics e TSMC da Coréia do Sul. A demanda por semicondutores de alto desempenho como 5G é forte e as duas empresas estão competindo por cada máquina litográfica ASML no valor de mais de 20 bilhões de ienes. Nesse processo, as oportunidades de negócios para as empresas de equipamentos de fabricação circundantes também estão se expandindo.
As estatísticas da Associação Internacional de Equipamentos e Materiais Semicondutores (SEMI) e da Associação de Equipamentos para Fabricação de Semicondutores do Japão (SEAJ) mostram que a participação de mercado dos equipamentos de fabricação de semicondutores fabricados no Japão foi de 31,3% em 2019, o que rondou os 30% no passado. 20 anos.
No campo dos equipamentos litográficos, a Nikon e a Canon já haviam varrido o mercado mundial, mas fracassaram na competição com a ASML e ficaram para trás no desenvolvimento da EUV. No campo dos semicondutores, à medida que o processo de fabricação se torna difícil, a tendência do vencedor leva tudo está aumentando. A mudança geracional que considera o EUV como uma oportunidade também acelerará a sobrevivência dos mais aptos nas empresas de equipamentos.
"O investimento em equipamentos de ponta no mercado continental cessou", suspirou o chefe das empresas de peças e componentes relacionadas ao EUV. Como o governo holandês não aprovou, a ASML não conseguiu exportar máquinas de litografia EUV para o continente. Além disso, a compra de equipamentos e peças periféricas também é suspensa.
Há atrito comercial entre a China e os EUA por trás disso. Se o equipamento ASML não puder ser importado, os fabricantes de semicondutores do continente ficarão para trás na competição de miniaturização. O governo do continente propõe a meta de que a taxa de auto-suficiência de semicondutores atinja 40% em 2020 e 70% em 2025, mas isso é difícil de alcançar. Muitos pontos de vista acreditam que os Estados Unidos exerceram pressão sobre o governo holandês para usá-lo como uma arma de sanções.
Estatísticas da Associação Internacional de Equipamentos e Materiais Semicondutores mostram que o mercado de equipamentos para fabricação de semicondutores em 2019 foi de US $ 59,7 bilhões, um aumento de 59% em relação a 2014. Durante esse período, o mercado continental aumentou sua presença e sua participação no mundo o mercado geral aumentou de 11,6% em 2014 para 22,5%. Para as empresas japonesas de equipamentos de fabricação de semicondutores, o continente se tornou um mercado difícil de ignorar.
O desenvolvimento da tecnologia EUV é difícil e os custos de P&D de todas as empresas estão aumentando. Se o mercado não se expandir, o retorno do investimento das empresas será adiado e o desenvolvimento de novas tecnologias poderá ser difícil de avançar.
No mercado de equipamentos de fabricação de semicondutores de mais de 6 trilhões de ienes por ano, mudanças geracionais estão ocorrendo.
Quanto mais fina a largura da linha de circuito de um semicondutor, maior o desempenho e o atual produto de ponta é de 5 nanômetros. Para transferir um circuito tão fino para uma pastilha de silício, a máquina de litografia EUV é indispensável. Com o aumento da oferta de ASML, o único método EUV produzido em massa no mundo, também começou a competição pelo desenvolvimento, incluindo equipamentos periféricos, como revestimento e fontes de luz.
O símbolo da mudança geracional é o fabricante de equipamentos de teste Lasertec. Se houver defeitos na máscara fotográfica como placa de circuito original, a taxa de defeitos do semicondutor aumentará de acordo. A empresa produz equipamentos de teste compatíveis com EUV, e seus pedidos de julho de 2019 a março de 2020 aumentaram 2,2 vezes em relação ao mesmo período do ano passado, atingindo 65,8 bilhões de ienes. Espera-se que dois terços dos pedidos anuais estejam relacionados à EUV.
Além disso, confrontos ferozes entre empresas japonesas também estão ocorrendo. No campo das máquinas de escrever máscaras de feixe de elétrons, a NuFlare Technology da Toshiba está alcançando a aliança entre a JEOL e a IMS NANOFABRICATION (Áustria). O foco está no desenvolvimento da tecnologia "Multi-Beam" usando 260.000 raios laser.
Em janeiro, a Toshiba repeliu a HOYA, que iniciou uma TOB (oferta pública de aquisição) hostil e consolidou seu controle sobre Niu Fulai. 25 técnicos de desenvolvimento recém-enviados, etc., planejam fornecer equipamentos litográficos de próxima geração com suporte ao EUV até 2020.
A Gigaphoton (localizada na cidade de Oyama, província de Tochigi), uma subsidiária da Komatsu que produz fontes de laser, está ansiosa por um retorno. Antes do advento do EUV, a empresa se tornou uma das duas principais no campo de fontes de luz para máquinas de litografia. No entanto, devido a razões como a aquisição de um concorrente pela ASML, atualmente está perdendo sua presença. A Gigaphoton se esforça para desenvolver componentes de fontes de luz de alta produção antes que a ASML lance equipamentos de próxima geração EUV para recuperar sua participação no mercado.
O pano de fundo para as empresas acelerarem o desenvolvimento de equipamentos EUV é a competição de miniaturização lançada pela Samsung Electronics e TSMC da Coréia do Sul. A demanda por semicondutores de alto desempenho como 5G é forte e as duas empresas estão competindo por cada máquina litográfica ASML no valor de mais de 20 bilhões de ienes. Nesse processo, as oportunidades de negócios para as empresas de equipamentos de fabricação circundantes também estão se expandindo.
As estatísticas da Associação Internacional de Equipamentos e Materiais Semicondutores (SEMI) e da Associação de Equipamentos para Fabricação de Semicondutores do Japão (SEAJ) mostram que a participação de mercado dos equipamentos de fabricação de semicondutores fabricados no Japão foi de 31,3% em 2019, o que rondou os 30% no passado. 20 anos.
No campo dos equipamentos litográficos, a Nikon e a Canon já haviam varrido o mercado mundial, mas fracassaram na competição com a ASML e ficaram para trás no desenvolvimento da EUV. No campo dos semicondutores, à medida que o processo de fabricação se torna difícil, a tendência do vencedor leva tudo está aumentando. A mudança geracional que considera o EUV como uma oportunidade também acelerará a sobrevivência dos mais aptos nas empresas de equipamentos.
"O investimento em equipamentos de ponta no mercado continental cessou", suspirou o chefe das empresas de peças e componentes relacionadas ao EUV. Como o governo holandês não aprovou, a ASML não conseguiu exportar máquinas de litografia EUV para o continente. Além disso, a compra de equipamentos e peças periféricas também é suspensa.
Há atrito comercial entre a China e os EUA por trás disso. Se o equipamento ASML não puder ser importado, os fabricantes de semicondutores do continente ficarão para trás na competição de miniaturização. O governo do continente propõe a meta de que a taxa de auto-suficiência de semicondutores atinja 40% em 2020 e 70% em 2025, mas isso é difícil de alcançar. Muitos pontos de vista acreditam que os Estados Unidos exerceram pressão sobre o governo holandês para usá-lo como uma arma de sanções.
Estatísticas da Associação Internacional de Equipamentos e Materiais Semicondutores mostram que o mercado de equipamentos para fabricação de semicondutores em 2019 foi de US $ 59,7 bilhões, um aumento de 59% em relação a 2014. Durante esse período, o mercado continental aumentou sua presença e sua participação no mundo o mercado geral aumentou de 11,6% em 2014 para 22,5%. Para as empresas japonesas de equipamentos de fabricação de semicondutores, o continente se tornou um mercado difícil de ignorar.
O desenvolvimento da tecnologia EUV é difícil e os custos de P&D de todas as empresas estão aumentando. Se o mercado não se expandir, o retorno do investimento das empresas será adiado e o desenvolvimento de novas tecnologias poderá ser difícil de avançar.