A primeira tecnologia de limpeza por máscara EUV da TSMC, economizou mais de 470 milhões de yuans

De acordo com relatos da mídia de Taiwan, a TSMC introduziu a tecnologia de limpeza por máscara ultravioleta seca extrema (EUV) para melhorar a eficiência de energia e recursos, e criou benefícios de melhoria cumulativos de NT $ 2 bilhões (aproximadamente RMB 476 milhões).

A inovadora tecnologia de limpeza de máscara EUV seca da TSMC foi introduzida para produção experimental em 2018. Em 2019, desenvolveu ainda mais a automação da tecnologia de limpeza de máscara EUV seca. Foi totalmente introduzido na área de fabricação de bolachas de 12 polegadas para produção em massa em janeiro deste ano.

Entende-se que a TSMC inovou e desenvolveu a tecnologia de limpeza por máscara EUV seca para remover rapidamente a poeira através da tecnologia seca, substituindo o método de limpeza por umidade que requer água e produtos químicos puros; ao mesmo tempo, ele usa a tecnologia de análise de nível subnano para localizar com precisão a fonte de poeira e eliminá-la. A fonte de poluição, até 2020, a taxa de redução de poeira será superior a 99%. Até agora, a economia acumulada de água foi de cerca de 735 toneladas e o uso de produtos químicos foi reduzido em cerca de 36 toneladas.

Além disso, a introdução da tecnologia de limpeza a seco reduziu muito a frequência e o tempo de manutenção da máscara, aumentou a taxa de utilização da máscara em mais de 80% e prolongou a vida útil da máscara EUV avançada, criando um benefício cumulativo de melhoria. 2 bilhões de yuans.